ALIGNMENT MARK AND ALIGNMENT METHOD FOR THE FABRICATION OF TRENCH-CAPACITOR DRAM DEVICES

发明申请

US20060234440A1 ALIGNMENT MARK AND ALIGNMENT METHOD FOR THE FABRICATION OF TRENCH-CAPACITOR DRAM DEVICES 有权

标题翻译：用于制造TRENCH-CAPACITOR DRAM器件的对准标记和对准方法

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专利标题： ALIGNMENT MARK AND ALIGNMENT METHOD FOR THE FABRICATION OF TRENCH-CAPACITOR DRAM DEVICES
专利标题（中）： 用于制造TRENCH-CAPACITOR DRAM器件的对准标记和对准方法
申请号： US11160683

申请日： 2005-07-05
公开(公告)号： US20060234440A1

公开(公告)日： 2006-10-19
发明人: Yuan-Hsun WU , An-Hsiung Liu , Chiang-Lin Shih , Pei-Ing Lee , Hui-Min Mao , Lin-Chin Su
申请人： Yuan-Hsun WU , An-Hsiung Liu , Chiang-Lin Shih , Pei-Ing Lee , Hui-Min Mao , Lin-Chin Su
优先权： TW094112415 20050419
主分类号： H01L21/8242
IPC分类号： H01L21/8242 ; H01L21/20

ALIGNMENT MARK AND ALIGNMENT METHOD FOR THE FABRICATION OF TRENCH-CAPACITOR DRAM DEVICES

摘要：

A small-size (w

摘要（中）：

提出了与“k1工艺”结合的小尺寸（w <0.5微米）对准标记，其特别适用于需要高精度AA-DT对准的沟槽电容器DRAM器件的制造。利用“k1工艺”来蚀刻散布在对准标记沟槽中的多晶硅，并且在AA图案转印之前刷新沟槽轮廓，从而提高晶片对准精度和精度。

公开/授权文献

US07419882B2 Alignment mark and alignment method for the fabrication of trench-capacitor dram devices 公开/授权日：2008-09-02

信息查询

Global Dossier Espacenet

IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77	..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78	...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82	....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822	.....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232	......场效应工艺
H01L21/8234	.......MIS工艺
H01L21/8239	........存储器结构
H01L21/8242	.........动态随机存取存储结构（DRAM）