发明申请
- 专利标题： Apparatus for Inspecting a Wafer
- 专利标题（中）： 检查晶圆的装置
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申请号： US11422182申请日： 2006-06-05
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公开(公告)号： US20070013902A1公开(公告)日： 2007-01-18
- 发明人: Henning Backhauss , Albert Kreh , Christof Krampe-Zadler
- 申请人： Henning Backhauss , Albert Kreh , Christof Krampe-Zadler
- 申请人地址： DE Wetzlar
- 专利权人： VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH
- 当前专利权人： VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH
- 当前专利权人地址： DE Wetzlar
- 优先权： DE102005033036.3 20050715
- 主分类号： G01N21/88
- IPC分类号： G01N21/88
摘要：
The present invention relates to an apparatus and method for automatically inspecting a wafer, having a light source and an illumination optics for illuminating the wafer for inspection, wherein the illumination optics comprises a variable gray filter for adjusting the illumination power.
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