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发明申请
US20070123136A1 In situ cleaning process for field effect device spacers 失效
场效应器件间隔物的原位清洗工艺

  • 专利标题： In situ cleaning process for field effect device spacers
  • 专利标题（中）： 场效应器件间隔物的原位清洗工艺
  • 申请号： US11288824
    申请日： 2005-11-28
  • 公开(公告)号： US20070123136A1
    公开(公告)日： 2007-05-31
  • 发明人: Hao Li , James Jaskie
  • 申请人： Hao Li , James Jaskie
  • 主分类号： H01J9/38
  • IPC分类号： H01J9/38 ;  H01J9/44
In situ cleaning process for field effect device spacers
摘要：
A method is provided for in situ cleaning of spacers (42) separating an anode (14) and cathode (12) of a flat panel display (10) in a vacuum by impacting electrons upon the spacers (42).
摘要（中）：

提供一种用于在真空中通过将电子撞击在间隔物（42）上来分离平板显示器（10）的阳极（14）和阴极（12）的间隔物（42）进行原位清洁的方法。

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