METHOD FOR FORMING A STRESSOR LAYER

发明申请

US20080026517A1 METHOD FOR FORMING A STRESSOR LAYER 审中-公开

标题翻译：形成压力层的方法

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专利标题： METHOD FOR FORMING A STRESSOR LAYER
专利标题（中）： 形成压力层的方法
申请号： US11460742

申请日： 2006-07-28
公开(公告)号： US20080026517A1

公开(公告)日： 2008-01-31
发明人: Paul A. Grudowski , Kurt H. Junker , Venkat R. Kolagunta
申请人： Paul A. Grudowski , Kurt H. Junker , Venkat R. Kolagunta
主分类号： H01L21/8234
IPC分类号： H01L21/8234

摘要：

In one aspect, a method for forming a semiconductor device includes forming a stressor layer over a gate stack and a spacer adjacent the gate stack, implanting a species into at least a portion of the stressor layer, and curing the stressor layer. In another aspect, a method includes forming an etch stop layer over a semiconductor substrate, where the etch stop layer has a structure, modifying at least a portion of the structure of the etch stop layer, and curing the etch stop layer after modifying at least the portion of the structure of the etch stop layer.

摘要（中）：

在一个方面，一种用于形成半导体器件的方法包括在栅极叠层上形成应力层，邻近栅叠层形成间隔物，将物质注入至少一部分应力层中，并固化应力层。在另一方面，一种方法包括在半导体衬底上形成蚀刻停止层，其中蚀刻停止层具有结构，修饰蚀刻停止层的结构的至少一部分，以及在至少修改蚀刻停止层之后固化蚀刻停止层蚀刻停止层的结构部分。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77	..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78	...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82	....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822	.....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232	......场效应工艺
H01L21/8234	.......MIS工艺