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发明申请
US20080061248A1 High Refractive Index Fluids for Immersion Lithography 失效
用于浸没光刻的高折射率流体

  • 专利标题： High Refractive Index Fluids for Immersion Lithography
  • 专利标题（中）： 用于浸没光刻的高折射率流体
  • 申请号： US11759996
    申请日： 2007-06-08
  • 公开(公告)号： US20080061248A1
    公开(公告)日： 2008-03-13
  • 发明人: Jerald Feldman
  • 申请人： Jerald Feldman
  • 主分类号： G21K5/00
  • IPC分类号： G21K5/00 ;  G03C5/04
High Refractive Index Fluids for Immersion Lithography
摘要：
Provided are compositions suitable for use as immersion liquids in immersion lithography, and immersion lithography processes and apparatus for using the compositions.
摘要（中）：

提供了适合用作浸没式光刻中浸渍液体的组合物，以及浸没式光刻工艺和使用该组合物的设备。

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