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    Layered radiation-sensitive materials with varying sensitivity
    1.
    发明授权
    Layered radiation-sensitive materials with varying sensitivity 有权
    具有不同灵敏度的分层辐射敏感材料

    公开(公告)号：US09405192B2

    公开(公告)日：2016-08-02

    申请号：US13088792

    申请日：2011-04-18

    申请人： Jeffrey A. Rock ,  Gerald W. Fly ,  Yeh-Hung Lai ,  Keith E. Newman ,  Alan J. Jacobsen ,  William B. Carter ,  Peter D. Brewer ,  Hung D. Nguyen ,  Joanna A. Kolodziejska

    发明人： Jeffrey A. Rock ,  Gerald W. Fly ,  Yeh-Hung Lai ,  Keith E. Newman ,  Alan J. Jacobsen ,  William B. Carter ,  Peter D. Brewer ,  Hung D. Nguyen ,  Joanna A. Kolodziejska

    IPC分类号： G03C5/04 ,  G03F7/095 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/2022

    摘要： A method for fabricating a radiation-cured structure is provided. The method includes the steps of providing a first radiation-sensitive material and a second radiation-sensitive material adjacent the first radiation-sensitive material. The first radiation-sensitive material has a first sensitivity. The second radiation-sensitive material has the first sensitivity and a second sensitivity different from the first sensitivity. At least one mask is placed between at least one radiation source and the first and second radiation-sensitive materials. The mask has a plurality of substantially radiation-transparent apertures. The first and second radiation-sensitive materials are then exposed to a plurality of radiation beams through the radiation-transparent apertures in the mask to form a first construct in the first radiation-sensitive material and a second construct in the second radiation-sensitive material. The first construct and the second construct cooperate to form the radiation-cured structure.

    摘要翻译： 提供了一种制造辐射固化结构的方法。 该方法包括提供与第一辐射敏感材料相邻的第一辐射敏感材料和第二辐射敏感材料的步骤。 第一种辐射敏感材料具有第一敏感性。 第二辐射敏感材料具有与第一灵敏度不同的第一灵敏度和第二灵敏度。 至少一个掩模被放置在至少一个辐射源与第一和第二辐射敏感材料之间。 掩模具有多个基本上辐射透明的孔。 然后将第一和第二辐射敏感材料暴露于通过掩模中的辐射透明孔的多个辐射束，以在第一辐射敏感材料中形成第一构造体，并在第二辐射敏感材料中形成第二构造体。 第一构造和第二构造协作形成辐射固化结构。

    IMMERSION FLUIDS FOR LITHOGRAPHY
    2.
    发明申请
    IMMERSION FLUIDS FOR LITHOGRAPHY 有权
    倾斜流体用于岩石学

    公开(公告)号：US20080063989A1

    公开(公告)日：2008-03-13

    申请号：US11754615

    申请日：2007-05-29

    申请人： Theodore Fedynyshyn ,  Indira Pottebaum

    发明人： Theodore Fedynyshyn ,  Indira Pottebaum

    IPC分类号： G03C5/04

    CPC分类号： G03F7/2041 ,  C07F7/21

    摘要： Compositions for use as immersion fluids are described. In general, the immersion fluids can be utilized to perform lithography at short wavelengths (e.g., in a range from about 120 nm to about 260 nm). Some embodiments can be used in a range of actinic radiation between about 140 nm and about 160 nm (e.g., about 157 nm). Immersion fluids can exhibit any number of advantageous features including a relatively high index of refraction (e.g., greater than about 1, or greater than about 1.3, or about greater than about 1.4) and/or a relatively low absorbance (e.g., lower than about 2 μm−1, or lower than about 1 μm−1, or lower than about 0.5 μm−1). Some immersion fluids can include silicon-containing compounds and/or germanium containing compounds. Such compounds can include at least one Ge—O bond or at least one Si—O bond. Such compounds can also include one or more fluorinated moieties.

    摘要翻译： 描述了用作浸液的组合物。 通常，浸没流体可用于在短波长（例如，在约120nm至约260nm的范围内）进行光刻。 一些实施方案可用于约140nm至约160nm（例如约157nm）之间的光化辐射范围。 浸没流体可以显示任何数量的有利特征，包括相对较高的折射率（例如，大于约1，或大于约1.3，或约大于约1.4）和/或相对较低的吸光度（例如，低于约 或低于约1umum-1，或低于约0.5μm-1）。 一些浸没流体可以包括含硅化合物和/或含锗化合物。 这样的化合物可以包括至少一个Ge-O键或至少一个Si-O键。 这样的化合物还可以包括一个或多个氟化部分。

    Process
    3.
    发明申请
    Process 审中-公开
    处理

    公开(公告)号：US20070122723A1

    公开(公告)日：2007-05-31

    申请号：US10558378

    申请日：2004-05-26

    申请人： Alan Hopper ,  Mark James ,  Simon Crum

    发明人： Alan Hopper ,  Mark James ,  Simon Crum

    IPC分类号： G03C3/00 ,  C23F1/00 ,  G03C5/04 ,  G03C1/00

    CPC分类号： C09D11/101 ,  C23F1/02 ,  H05K3/0076 ,  H05K3/061 ,  H05K2203/013

    摘要： A process for etching a metal or alloy surface which comprises applying an etch-resistant ink by ink jet printing to selected areas of the metal or alloy, exposing the etch-resistant ink to actinic radiation and/or particle beam radiation to effect polymerisation, optionally thermally treating the etch-resistant ink and then removing the exposed metal or alloy by a chemical etching process wherein the etch-resistant ink is substantially solvent-free and comprises the components: A) 30 to 90 parts acrylate-functional monomers; B) 0 to 50 parts metal adhesion promoting organic compound; C) 0 to 20 parts polymer and/or prepolymer; D) 0 to 20 parts radical initiator, E) 0 to 5 parts colorant; and F) 0 to 5 parts surfactant; wherein the ink has a viscosity of not greater than 200 cPs (mPa·s) at 40° C., all parts are by weight and the total number of parts A)+B)+C)+D)+E)+F)=100, provided that where the metal or alloy is supported by a non-etchable substrate, it does not constitute a printed circuit board.

    摘要翻译： 一种用于蚀刻金属或合金表面的方法，其包括通过喷墨印刷将金属或合金的选择区域施加耐蚀刻油墨，将耐蚀刻油墨暴露于光化辐射和/或粒子束辐射以进行聚合，任选地 热处理耐蚀刻油墨，然后通过化学蚀刻工艺去除暴露的金属或合金，其中耐蚀刻油墨基本上无溶剂，并且包含组分：A）30至90份丙烯酸酯官能单体; B）0〜50份金属附着力促进有机化合物; C）0〜20份聚合物和/或预聚物; D）0〜20份自由基引发剂，E）0〜5份着色剂; 和F）0至5份表面活性剂; 其中油墨在40℃下的粘度不大于200cPs（mPa.s），所有份数均为重量份数，A）+ B）+ C）+ D）+ E）+ F ）= 100，只要金属或合金由不可蚀刻的基板支撑，则其不构成印刷电路板。

    Method and apparatus for amplitude filtering in the frequency plane of a lithographic projection system
    5.
    发明授权
    Method and apparatus for amplitude filtering in the frequency plane of a lithographic projection system 失效
    在光刻投影系统的频率平面中进行幅度滤波的方法和装置

    公开(公告)号：US06940583B2

    公开(公告)日：2005-09-06

    申请号：US10604519

    申请日：2003-07-28

    申请人： Shahid Butt ,  Martin Burkhardt

    发明人： Shahid Butt ,  Martin Burkhardt

    IPC分类号： G02B27/44 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/72 ,  G03C5/04

    CPC分类号： G03B27/72 ,  G03F7/70316

    摘要： A method of projecting a pattern from a mask onto a substrate comprises providing an energy source, a substrate, and a mask containing a pattern of features to be projected onto the substrate, and projecting an energy beam from the energy source though the mask toward the substrate to create a projected mask pattern image. The projected mask pattern image is created by zeroth and higher orders of the energy beam. The method then includes diffracting zeroth order beams of the projected mask pattern image to an extent that prevents the zeroth order beams from reaching the substrate, while permitting higher order beams of the projected mask pattern image to reach the substrate. Preferably, the zeroth order beams of the projected mask pattern image are diffracted at an obtuse angle.

    摘要翻译： 将图案从掩模投影到衬底上的方法包括提供能量源，衬底和包含要投影到衬底上的特征图案的掩模，以及通过掩模将能量束投射到能量源向着 基板以创建投影的掩模图案图像。 投射的掩模图案图像由能量束的零级和更高级创建。 然后，该方法包括将投影的掩模图案图像的第零级光束衍射到防止第零级光束到达基板的程度，同时允许投影的掩模图案图像的较高阶光束到达基板。 优选地，投影的掩模图案图像的零阶光束以钝角衍射。

    Image forming method
    6.
    发明申请
    Image forming method 审中-公开
    图像形成方法

    公开(公告)号：US20050118540A1

    公开(公告)日：2005-06-02

    申请号：US10962851

    申请日：2004-10-13

    申请人： Tatsuya Ishizaka ,  Terukazu Yanagi

    发明人： Tatsuya Ishizaka ,  Terukazu Yanagi

    IPC分类号： G03C1/38 ,  G03C1/76 ,  G03C5/04 ,  G03C7/30 ,  G03C1/00

    CPC分类号： G03C7/3029 ,  G03C1/385 ,  G03C1/7614 ,  G03C1/85 ,  G03C5/04 ,  G03C2001/7628

    摘要： The invention provides an image forming method in which a silver halide color photosensitive material has a back layer on an opposite side to the silver halide emulsion layers. The back layer contains colloidal silica and has a surface resistance of 1.0×1014 Ω or less on the surface of the back layer, or a charge leak time of 200 seconds or less on the surface of the back layer, and an image forming method in which a silver halide color photosensitive material comprises at least one selected from fluorine type surfactants represented by general formulae (I), (II), (III) or (IV), the color development is executed with a replenishing amount of the color developer of 20 to 60 ml per 1 m2 of the photosensitive material, and the bleach-fixing is executed with a replenishing amount of the bleach-fixing solution of 20 to 50 ml per 1 m2 of it:

    摘要翻译： 本发明提供一种图像形成方法，其中卤化银色感光材料在与卤化银乳剂层相反的一侧具有背层。 背层含有胶态二氧化硅，背面表面的表面电阻为1.0×10 14Ω以下，或背面层表面的电荷泄漏时间为200秒以下 以及其中卤化银色感光材料包含选自由通式（I），（II），（III）或（IV）表示的氟型表面活性剂中的至少一种）的成像方法，显色用 补色量为每1m 2感光材料为20至60ml的彩色显影剂，漂白剂固定用补充量的漂白定影液为20至50ml， 1 m 2其中：

    Method of manufacturing an ink jet recording head
    7.
    发明授权
    Method of manufacturing an ink jet recording head 有权
    喷墨记录头的制造方法

    公开(公告)号：US06895668B2

    公开(公告)日：2005-05-24

    申请号：US09526173

    申请日：2000-03-15

    申请人： Isao Imamura

    发明人： Isao Imamura

    IPC分类号： B41J2/135 ,  B41J2/16 ,  B21D53/76 ,  G03C5/04

    CPC分类号： B41J2/1639 ,  B41J2/1604 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1645 ,  Y10S29/016 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/49401

    摘要： A manufacturing method of an ink-jet recording head includes the following steps. An ink-repellent second active energy ray setting resin is coated over a first active energy ray setting resin for forming a liquid path. The first resin is set. Both resins are exposed, and both resins are developed.

    摘要翻译： 喷墨记录头的制造方法包括以下步骤。 在第一活性能量射线凝固树脂上涂覆防油墨第二活性能量射线凝固树脂以形成液体通道。 第一树脂被设定。 两种树脂都被暴露，并且两种树脂都被开发出来。

    Color photographic print material
    8.
    发明授权
    Color photographic print material 失效
    彩色照相打印材料

    公开(公告)号：US06890707B2

    公开(公告)日：2005-05-10

    申请号：US10612809

    申请日：2003-07-02

    申请人： Ralf Weimann ,  Markus Geiger ,  Cuong Ly ,  Klaus Sinzger ,  Beate Weber ,  Heinz Wiesen

    发明人： Ralf Weimann ,  Markus Geiger ,  Cuong Ly ,  Klaus Sinzger ,  Beate Weber ,  Heinz Wiesen

    IPC分类号： G03C5/08 ,  G03C1/035 ,  G03C1/09 ,  G03C5/04 ,  G03C7/00 ,  G03C7/30 ,  G03C7/34 ,  G03C7/392 ,  G03C1/08 ,  G03C7/25 ,  G03C7/32

    CPC分类号： G03C7/346 ,  G03C1/09 ,  G03C5/04 ,  G03C7/30 ,  G03C7/3022 ,  G03C7/39204 ,  G03C2001/03517 ,  G03C2001/093 ,  G03C2200/19

    摘要： A print material having a support, at least one red-sensitive silver halide emulsion layer containing at least one cyan coupler, at least one green-sensitive silver halide emulsion layer containing at least one magenta coupler and at least one blue-sensitive silver halide emulsion layer containing at least one yellow coupler, characterised in that the silver halide crystals of the red-sensitive layer have a chloride content of at least 95 mol %, contain 20 to 500 nmol of iridium per mol of silver halide and the cyan coupler is of the formula in which R1 means a hydrogen atom or an alkyl group, R2 means an alkyl, aryl or hetaryl group, R3 means an alkyl or aryl group, R4 means an alkyl, alkenyl, alkoxy, aryloxy, acyloxy, acylamino, sulfonyloxy, sulfamoylamino, sulfonamido, ureido, hydroxycarbonyl, hydroxycarbonylamino, carbamoyl, alkylthio, arylthio, alkylamino or arylamino group or a hydrogen atom and Z means a hydrogen atom or a group eliminable under the conditions of chromogenic development, is distinguished in that it is equally ideally suitable for analogue and scanning exposure and exhibits very good latent image stability.

    摘要翻译： 具有载体的印刷材料，至少一种含有至少一种青色成色剂的感红卤化银乳剂层，至少一种包含至少一种品红成色剂的至少一种感光卤化银乳剂层和至少一种感蓝卤化银乳剂 含有至少一种黄色成色剂的层，其特征在于，红色敏感层的卤化银晶体的氯化物含量为至少95摩尔％，每摩尔卤化银含有20-500nmol的铱，青色成色剂为 其中R 1表示氢原子或烷基的式R 2是指烷基，芳基或杂芳基，R 3表示 烷基或芳基，R 4表示烷基，烯基，烷氧基，芳氧基，酰氧基，酰氨基，磺酰氧基，氨磺酰氨基，亚磺酰氨基，脲基，羟基羰基，羟基羰基氨基，氨基甲酰基，烷硫基，芳硫基，烷基氨基或芳基氨基 基团或氢原子，Z表示氢原子或取代基 在显色发展的条件下，其特征在于它同样理想地适用于模拟和扫描曝光，并且表现出非常好的潜像稳定性。