发明申请
- 专利标题： METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTION OPTIMIZATION
- 专利标题（中）： 检验优化方法与系统
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申请号： US11612439申请日： 2006-12-18
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公开(公告)号： US20080148195A1公开(公告)日： 2008-06-19
- 发明人: Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
- 申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
- 申请人地址： US CA San Jose
- 专利权人： Cadence Design Systems, Inc.
- 当前专利权人： Cadence Design Systems, Inc.
- 当前专利权人地址： US CA San Jose
- 主分类号： G06F17/50
- IPC分类号： G06F17/50
摘要：
A method and apparatus for inspection optimization is provided. Inspection optimization improves the parametric and functional yield using optimized inspection lists for in-line semiconductor manufacturing metrology and inspection equipment.
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