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1.发明授权公开(公告)号：US07694244B2
公开(公告)日：2010-04-06
申请号：US11612446
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5022 , G06F17/5031
摘要： A method and apparatus for modeling and cross correlation of design predicted criticalities include a feedback loop where information from the manufacturing process is provided to cross correlation engine for optimization of semiconductor manufacturing. The information may include parametric information, functional information, and hot spots determination. The sharing of information allows for design intent to be reflected in manufacturing metrology space; thus, allowing for more intelligent metrology and reduces cycle time.
摘要翻译： 用于设计预测临界的建模和互相关的方法和装置包括反馈回路，其中来自制造过程的信息被提供给用于优化半导体制造的互相关引擎。 该信息可以包括参数信息，功能信息和热点确定。 信息共享允许设计意图反映在制造计量空间中; 因此，允许更智能的计量和减少循环时间。
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公开(公告)号：US20080148194A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：US11612432
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/00
CPC分类号： G05B19/41865 , G03F7/70525 , G05B2219/32015 , G05B2219/32293 , G05B2219/45031 , Y02P90/20
摘要： A method and apparatus for process optimization is provided. Process optimization improves parametric and functional yield post mask manufacturing.
摘要翻译： 提供了一种用于过程优化的方法和装置。 工艺优化提高了掩模制造的参数和功能产量。
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3.发明授权公开(公告)号：US08407630B1
公开(公告)日：2013-03-26
申请号：US12644478
申请日：2009-12-22
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5022 , G06F17/5031
摘要： A method and apparatus for modeling and cross correlation of design predicted criticalities include a feedback loop where information from the manufacturing process is provided to cross correlation engine for optimization of semiconductor manufacturing. The information may include parametric information, functional information, and hot spots determination. The sharing of information allows for design intent to be reflected in manufacturing metrology space; thus, allowing for more intelligent metrology and reduces cycle time.
摘要翻译： 用于设计预测临界的建模和互相关的方法和装置包括反馈回路，其中来自制造过程的信息被提供给用于优化半导体制造的互相关引擎。 该信息可以包括参数信息，功能信息和热点确定。 信息共享允许设计意图反映在制造计量空间中; 因此，允许更智能的计量和减少循环时间。
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公开(公告)号：US20080148216A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：US11612422
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： A method and apparatus for mask optimization is provided. Mask design and production is optimized by providing proper weighting parameters for critical features. The parameters may include information such as parametric information, functional information, and hot spots determination.
摘要翻译： 提供了一种用于掩模优化的方法和装置。 通过为关键功能提供适当的加权参数来优化面罩设计和生产。 这些参数可以包括参数信息，功能信息和热点确定等信息。
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5.发明授权公开(公告)号：US07665048B2
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：US11612439
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： A method and apparatus for inspection optimization is provided. Inspection optimization improves the parametric and functional yield using optimized inspection lists for in-line semiconductor manufacturing metrology and inspection equipment.
摘要翻译： 提供了一种用于检查优化的方法和装置。 检测优化通过使用优化的在线半导体制造计量和检测设备的检查列表来提高参数和功能产量。
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6.发明申请公开(公告)号：US20080147374A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：US11612446
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5022 , G06F17/5031
摘要： A method and apparatus for modeling and cross correlation of design predicted criticalities include a feedback loop where information from the manufacturing process is provided to cross correlation engine for optimization of semiconductor manufacturing. The information may include parametric information, functional information, and hot spots determination. The sharing of information allows for design intent to be reflected in manufacturing metrology space; thus, allowing for more intelligent metrology and reduces cycle time.
摘要翻译： 用于设计预测临界的建模和互相关的方法和装置包括反馈回路，其中来自制造过程的信息被提供给用于优化半导体制造的互相关引擎。 该信息可以包括参数信息，功能信息和热点确定。 信息共享允许设计意图反映在制造计量空间中; 因此，允许更智能的计量和减少循环时间。
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公开(公告)号：US08156450B2
公开(公告)日：2012-04-10
申请号：US11612422
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： A method and apparatus for mask optimization is provided. Mask design and production is optimized by providing proper weighting parameters for critical features. The parameters may include information such as parametric information, functional information, and hot spots determination.
摘要翻译： 提供了一种用于掩模优化的方法和装置。 通过为关键功能提供适当的加权参数来优化面罩设计和生产。 这些参数可以包括参数信息，功能信息和热点确定等信息。
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公开(公告)号：US08146024B2
公开(公告)日：2012-03-27
申请号：US11612432
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G05B19/41865 , G03F7/70525 , G05B2219/32015 , G05B2219/32293 , G05B2219/45031 , Y02P90/20
摘要： A method and apparatus for process optimization is provided. Process optimization improves parametric and functional yield post mask manufacturing.
摘要翻译： 提供了一种用于过程优化的方法和装置。 工艺优化提高了掩模制造的参数和功能产量。
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公开(公告)号：US20080148195A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：US11612439
申请日：2006-12-18
申请人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
发明人： Kevin Chan , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar , Svetlana Litvintseva , Mark A. Miller , Francis Raquel
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： A method and apparatus for inspection optimization is provided. Inspection optimization improves the parametric and functional yield using optimized inspection lists for in-line semiconductor manufacturing metrology and inspection equipment.
摘要翻译： 提供了一种用于检查优化的方法和装置。 检测优化通过使用优化的在线半导体制造计量和检测设备的检查列表来提高参数和功能产量。
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