发明申请
US20100035185A1 Compound for Photoacid Generator, Resist Composition Using the Same, and Pattern-Forming Method
有权
光致变色发生剂的组合物，使用其的抗蚀剂组合物和图案形成方法
- 专利标题： Compound for Photoacid Generator, Resist Composition Using the Same, and Pattern-Forming Method
- 专利标题（中）： 光致变色发生剂的组合物，使用其的抗蚀剂组合物和图案形成方法
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申请号： US12527362申请日： 2008-02-14
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公开(公告)号： US20100035185A1公开(公告)日： 2010-02-11
- 发明人: Yuji Hagiwara , Jonathan Joachim Jodry , Satoru Narizuka , Kazuhiko Maeda
- 申请人： Yuji Hagiwara , Jonathan Joachim Jodry , Satoru Narizuka , Kazuhiko Maeda
- 申请人地址： JP YAMAGUCHI
- 专利权人： CENTRAL GLASS COMPANY, LTD.
- 当前专利权人： CENTRAL GLASS COMPANY, LTD.
- 当前专利权人地址： JP YAMAGUCHI
- 优先权： JP2007-034834 20070215; JP2007-066236 20070315; JP2007-143879 20070530; JP2007-143880 20070530
- 国际申请： PCT/JP2008/052410 WO 20080214
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07C69/003 ; C07C69/74 ; C07D207/00 ; G03F7/20
摘要：
A sulfonic acid onium salt represented by the following formula (1) can be used as a superior radiosensitive acid generator for resist compositions. It is possible to form a good pattern by using a resist composition containing this sulfonic acid onium salt. In formula (1), R1 represents a monovalent organic group, and Q+ represents a sulfonium cation or iodonium cation.
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