发明申请
- 专利标题： ANTIALLERGENIC COMPOSITION
- 专利标题（中）： 抗真菌组合物
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申请号： US12447413申请日： 2007-10-26
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公开(公告)号： US20100056631A1公开(公告)日： 2010-03-04
- 发明人: Ryuji Hisamura , Shigeru Nakamura , Toyoaki Yoneda
- 申请人： Ryuji Hisamura , Shigeru Nakamura , Toyoaki Yoneda
- 申请人地址： JP Kobe-shi, Hyogo
- 专利权人： OPHTECS CORPORATION
- 当前专利权人： OPHTECS CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Kobe-shi, Hyogo
- 优先权： JP2006-294364 20061030
- 国际申请： PCT/JP2007/071363 WO 20071026
- 主分类号： A61K31/19
- IPC分类号： A61K31/19 ; C07C59/01 ; A61P27/14
摘要：
An antiallergenic composition comprising 3-hydroxybutyric acid and/or a salt thereof. The antiallergenic composition is safe.
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