发明申请
US20110129602A1 DIRUTHENIUM COMPLEX, AND MATERIAL AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
有权
二氧化钛复合材料，以及化学蒸气沉积的材料和方法
- 专利标题： DIRUTHENIUM COMPLEX, AND MATERIAL AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
- 专利标题（中）： 二氧化钛复合材料，以及化学蒸气沉积的材料和方法
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申请号： US12933127申请日： 2008-09-04
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公开(公告)号： US20110129602A1公开(公告)日： 2011-06-02
- 发明人: Tatsuya Sakai , Sanshiro Komiya , Naofumi Nomura
- 申请人： Tatsuya Sakai , Sanshiro Komiya , Naofumi Nomura
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： JSR CORPORATION
- 当前专利权人： JSR CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2008-068102 20080317
- 国际申请： PCT/JP2008/066364 WO 20080904
- 主分类号： C23C16/06
- IPC分类号： C23C16/06 ; C07F15/00
摘要：
A diruthenium complex such as tetra(μ-formato)diruthenium(II,II) or tetra(μ-formato)(dehydrate)diruthenium(II,II), a material for chemical vapor deposition which comprises the complex, and a method of forming a ruthenium film from the material by chemical vapor deposition.
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