发明申请
US20110147341A1 ETCHING SOLUTION FOR TITANIUM-BASED METAL, TUNGSTEN-BASED METAL, TITANIUM/TUNGSTEN-BASED METAL OR THEIR NITRIDES
审中-公开
基于金属的金属，基于金属的金属，基于金属或金属的金属或其氮化物的蚀刻解决方案
- 专利标题： ETCHING SOLUTION FOR TITANIUM-BASED METAL, TUNGSTEN-BASED METAL, TITANIUM/TUNGSTEN-BASED METAL OR THEIR NITRIDES
- 专利标题（中）： 基于金属的金属，基于金属的金属，基于金属或金属的金属或其氮化物的蚀刻解决方案
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申请号： US13060406申请日： 2009-08-25
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公开(公告)号： US20110147341A1公开(公告)日： 2011-06-23
- 发明人: Hironosuke Sato , Yasuo Saito
- 申请人： Hironosuke Sato , Yasuo Saito
- 申请人地址： JP Minato-ku, Tokyo
- 专利权人： SHOWA DENKO K.K.
- 当前专利权人： SHOWA DENKO K.K.
- 当前专利权人地址： JP Minato-ku, Tokyo
- 优先权： JP2008-231325 20080909
- 国际申请： PCT/JP2009/065136 WO 20090825
- 主分类号： C23F1/16
- IPC分类号： C23F1/16 ; C09K13/00 ; C23F1/00 ; C23F1/26 ; C23F1/30
摘要：
An etching solution for titanium-based metals, tungsten-based metals, titanium/tungsten-based metals or their nitrides. The etching solution contains 10-40 mass % hydrogen peroxide, 0.1-15 mass % of an organic acid salt, and water.
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