发明申请
US20120003590A1 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
审中-公开
丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀性膜和使用其的图案形成方法
- 专利标题： ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
- 专利标题（中）： 丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀性膜和使用其的图案形成方法
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申请号： US13033079申请日： 2011-02-23
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公开(公告)号： US20120003590A1公开(公告)日： 2012-01-05
- 发明人: Shuji HIRANO , Hidenori TAKAHASHI , Tomotaka TSUCHIMURA , Takeshi KAWABATA , Hideaki TSUBAKI
- 申请人： Shuji HIRANO , Hidenori TAKAHASHI , Tomotaka TSUCHIMURA , Takeshi KAWABATA , Hideaki TSUBAKI
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2010-151500 20100701; JP2011-025505 20110208
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; C08F214/18
摘要：
An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin having (A) a repeating unit represented by a specific formula (I) and (B) a repeating unit capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.
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