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    Positive photosensitive composition
    6.
    发明授权
    Positive photosensitive composition 有权
    正光敏组合物

    公开(公告)号：US08148044B2

    公开(公告)日：2012-04-03

    申请号：US12608567

    申请日：2009-10-29

    申请人： Shuhei Yamaguchi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yuko Tada

    发明人： Shuhei Yamaguchi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yuko Tada

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C07C309/15

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/66 ,  C07C2603/74 ,  C09B49/126 ,  C09B57/00 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126

    摘要： A positive photosensitive composition includes at least one compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates any of the sulfonic acids of general formula (I) and a resin whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid, wherein each of X1 and X2 independently represents a fluorine atom or a fluoroalkyl group, R1 represents a group with a polycyclic structure, provided that the polycyclic structure may have a substituent, and R2 represents a hydrogen atom, a chain alkyl group, a monocyclic alkyl group, a group with a polycyclic structure or a monocyclic aryl group, provided that each of the chain alkyl group, monocyclic alkyl group, polycyclic structure and monocyclic aryl group may have a substituent, and provided that R1 and R2 may be bonded to each other to thereby form a polycyclic structure.

    摘要翻译： 正型光敏组合物包括至少一种化合物，当暴露于光化射线或辐射时，产生通式（I）的任何磺酸和其在碱显影剂中的溶解度通过酸的作用而增加的树脂，其中每种 的X 1和X 2独立地表示氟原子或氟烷基，R 1表示具有多环结构的基团，条件是多环结构可以具有取代基，并且R 2表示氢原子，链烷基，单环烷基， 具有多环结构或单环芳基的基团，条件是链烷基，单环烷基，多环结构和单环芳基中的每一个可以具有取代基，并且条件是R 1和R 2可以彼此键合，从而 形成多环结构。

    Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
    7.
    发明授权
    Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor 有权
    光敏树脂组合物，遮光滤色片及其制作方法及图像传感器

    公开(公告)号：US08110324B2

    公开(公告)日：2012-02-07

    申请号：US12407935

    申请日：2009-03-20

    申请人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    发明人： Toru Fujimori ,  Yoichi Maruyama ,  Hiroyuki Einaga ,  Kazuto Shimada ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Yushi Kaneko

    IPC分类号： G02B5/20

    CPC分类号： G03F7/0007

    摘要： A photosensitive resin composition is provided that includes at least (A) titanium black, (B) two or more types of polymerizable compounds, (C) a resin, (D) a photopolymerization initiator, and (E) an organic solvent. There are also provided a light-shielding color filter formed by using the photosensitive resin composition, and a process for producing a light-shielding color filter, the process including a step of coating a substrate with the photosensitive resin composition, a step of imagewise exposing, and a step of developing to form a pattern. Furthermore, there is provided an image sensor that includes the light-shielding color filter.

    摘要翻译： 提供至少包含（A）钛黑，（B）两种或更多种可聚合化合物，（C）树脂，（D）光聚合引发剂和（E）有机溶剂）的感光性树脂组合物。 还提供了使用感光性树脂组合物形成的遮光性滤色器，以及遮光性滤色片的制造方法，其特征在于，包括使用所述感光性树脂组合物涂布基材的工序，成像曝光工序 ，以及形成图案的步骤。 此外，提供了包括遮光滤色器的图像传感器。