发明申请
US20120219891A1 RESIST COMPOSITION, RESIST FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING NEGATIVE PATTERN USING THE COMPOSITION
有权
耐蚀组合物，其抗静电膜和使用组合物形成负面图案的方法
- 专利标题： RESIST COMPOSITION, RESIST FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING NEGATIVE PATTERN USING THE COMPOSITION
- 专利标题（中）： 耐蚀组合物，其抗静电膜和使用组合物形成负面图案的方法
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申请号： US13406165申请日： 2012-02-27
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公开(公告)号： US20120219891A1公开(公告)日： 2012-08-30
- 发明人: Kana FUJII , Hidenori TAKAHASHI , Fumiyuki NISHIYAMA
- 申请人： Kana FUJII , Hidenori TAKAHASHI , Fumiyuki NISHIYAMA
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2011-042891 20110228
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; B32B3/10 ; G03F7/004
摘要：
Provided is a resist composition including a resin (A) containing any of repeating units (a) of general formulae (I-a) and (I-b) below and any of repeating units (b) of general formula (II) below but containing substantially no repeating unit in which an alcoholic hydroxyl group is introduced, and any of compounds (B) of general formulae (III-a) and (III-b) below.
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