发明申请
US20120319000A1 MAGNETICALLY ENHANCED, INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE FOR A FOCUSED ION BEAM SYSTEM
有权
用于聚焦离子束系统的磁感应加强电感耦合等离子体源
- 专利标题： MAGNETICALLY ENHANCED, INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE FOR A FOCUSED ION BEAM SYSTEM
- 专利标题（中）： 用于聚焦离子束系统的磁感应加强电感耦合等离子体源
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申请号： US13437518申请日： 2012-04-02
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公开(公告)号： US20120319000A1公开(公告)日： 2012-12-20
- 发明人: John Keller , Noel Smith , Roderick Boswell , Lawrence Scipioni , Christine Charles , Orson Sutherland
- 申请人： John Keller , Noel Smith , Roderick Boswell , Lawrence Scipioni , Christine Charles , Orson Sutherland
- 申请人地址： US OR HILLSBORO
- 专利权人： FEI COMPANY
- 当前专利权人： FEI COMPANY
- 当前专利权人地址： US OR HILLSBORO
- 主分类号： G21K5/04
- IPC分类号： G21K5/04
摘要：
The present invention provides an inductively coupled, magnetically enhanced ion beam source, suitable to be used in conjunction with probe-forming optics to produce an ion beam without kinetic energy oscillations induced by the source.
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