Method and apparatus for coating a substrate
    6.
    发明授权
    Method and apparatus for coating a substrate 失效
    涂布基材的方法和装置

    公开(公告)号:US5900063A

    公开(公告)日:1999-05-04

    申请号:US682633

    申请日:1996-09-05

    CPC classification number: H01J37/32422 C23C14/30 C23C14/32 H01J37/3266

    Abstract: A method and apparatus for forming a coating on a substrate. The system (1) comprises an electron-beam evaporator (5) to produce an evaporant (6) from a source material, a plasma generation chamber (3), within which a magnetoplasma is generated, and a magnetic field supply means (10) to apply a magnetic field (11) to the apparatus (1), to transport the magnetoplasma (60) to the substrate (12).

    Abstract translation: PCT No.PCT / AU95 / 00047 Sec。 371日期:1996年9月5日 102(e)日期1996年9月5日PCT提交1995年2月2日PCT公布。 公开号WO95 / 21276 日期1995年8月10日在基板上形成涂层的方法和装置。 系统(1)包括从源材料产生蒸发器(6)的电子束蒸发器(5),产生磁致发电的等离子体产生室(3)和磁场供应装置(10) 将磁场(11)施加到装置(1),以将磁致(60)传输到基板(12)。

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