发明申请
- 专利标题： PROCESS AWARE METROLOGY
- 专利标题（中）： 过程技巧
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申请号： US13411433申请日： 2012-03-02
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公开(公告)号： US20130080984A1公开(公告)日： 2013-03-28
- 发明人: Xuefeng Liu , Yung-Ho Alex Chuang , John Fielden , Bin-Ming Benjamin Tsai , Jingjing Zhang
- 申请人： Xuefeng Liu , Yung-Ho Alex Chuang , John Fielden , Bin-Ming Benjamin Tsai , Jingjing Zhang
- 申请人地址： US CA Milpitas
- 专利权人： KLA-TENCOR CORPORATION
- 当前专利权人： KLA-TENCOR CORPORATION
- 当前专利权人地址： US CA Milpitas
- 主分类号： G06F17/50
- IPC分类号： G06F17/50
摘要：
Systems and methods for process aware metrology are provided.
公开/授权文献
- US08468471B2 Process aware metrology 公开/授权日：2013-06-18
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