发明申请
US20130267045A1 SHOWER HEAD APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLIGN PLASMA OR GAS DISTRIBUTION
有权
淋浴头设备和控制等离子体或气体分布的方法
- 专利标题： SHOWER HEAD APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLIGN PLASMA OR GAS DISTRIBUTION
- 专利标题（中）： 淋浴头设备和控制等离子体或气体分布的方法
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申请号： US13439127申请日： 2012-04-04
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公开(公告)号： US20130267045A1公开(公告)日： 2013-10-10
- 发明人: Chih-Tsung LEE , Hung Jui CHANG , You-Hua CHOU , Shiu-Ko JANGJIAN , Chung-En KAO , Ming-Chin TSAI , Huan-Wen LAI
- 申请人： Chih-Tsung LEE , Hung Jui CHANG , You-Hua CHOU , Shiu-Ko JANGJIAN , Chung-En KAO , Ming-Chin TSAI , Huan-Wen LAI
- 申请人地址： TW Hsin-Chu
- 专利权人： TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人： TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- 当前专利权人地址： TW Hsin-Chu
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; C23C16/50 ; C23C16/455
摘要：
An apparatus comprises: a shower head having a supply plenum for supplying the gas to the chamber and a vacuum manifold fluidly coupled to the supply plenum; and at least one vacuum system fluidly coupled to the vacuum manifold of the shower head.
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