发明申请
- 专利标题： OPTOELECTRONIC DEVICE AND THE MANUFACTURING METHOD THEREOF
- 专利标题（中）： 光电器件及其制造方法
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申请号： US13469236申请日： 2012-05-11
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公开(公告)号： US20130298972A1公开(公告)日： 2013-11-14
- 发明人: Yi-Hung Lin , Yu-Chih Yang , Wu-Tsung Lo
- 申请人： Yi-Hung Lin , Yu-Chih Yang , Wu-Tsung Lo
- 申请人地址： TW Hsinchu
- 专利权人： EPISTAR CORPORATION
- 当前专利权人： EPISTAR CORPORATION
- 当前专利权人地址： TW Hsinchu
- 主分类号： H01L31/0224
- IPC分类号： H01L31/0224 ; H01L33/58 ; H01L31/075 ; H01L31/18
摘要：
A method for manufacturing an optoelectronic device includes steps of: providing an optoelectronic structure; forming a first contact layer having a pattern on the upper surface of the optoelectronic structure; forming a dielectric layer on the first contact layer and the optoelectronic structure; removing the dielectric layer on the first contact layer; and forming an electrode structure on the first contact layer.
公开/授权文献
- US08884157B2 Method for manufacturing optoelectronic devices 公开/授权日：2014-11-11
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