发明申请
- 专利标题： POSITIVE WORKING PHOTOSENSITIVE MATERIAL
- 专利标题（中）： 积极的工作感光材料
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申请号： US13693496申请日： 2012-12-04
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公开(公告)号： US20140154624A1公开(公告)日： 2014-06-05
- 发明人: Weihong LIU , Ping-Hung LU , Medhat TOUKHY , SookMee LAI , Yoshiharu SAKURAI , Aritaka HISHIDA
- 申请人： Weihong LIU , Ping-Hung LU , Medhat TOUKHY , SookMee LAI , Yoshiharu SAKURAI , Aritaka HISHIDA
- 申请人地址： US NJ SOMERVILLE
- 专利权人： AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.
- 当前专利权人： AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.
- 当前专利权人地址： US NJ SOMERVILLE
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004
摘要：
Disclosed herein is a photosensitive composition comprising a heterocyclic thiol compound or tautomeric form thereof and its method of use on a substrate, which may include a chalcophile substrate.
公开/授权文献
- US08841062B2 Positive working photosensitive material 公开/授权日：2014-09-23
信息查询
IPC分类:
