发明申请
- 专利标题： HARD-MASK COMPOSITION
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申请号： US15904420申请日： 2018-02-25
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公开(公告)号： US20190127604A1公开(公告)日： 2019-05-02
- 发明人: Alex P. G. Robinson , Guy Dawson , Allan G. Brown , Thomas Lada , John Roth , Edward Jackson
- 申请人： Alex P. G. Robinson , Guy Dawson , Allan G. Brown , Thomas Lada , John Roth , Edward Jackson
- 主分类号： C09D163/04
- IPC分类号： C09D163/04
摘要：
Disclosed and claimed herein is a composition for forming a spin-on hard-mask, having a fullerene derivative substituted with an amine and a crosslinking agent. The formulation is drain compatible with other solvents used in the semiconductor industry.
公开/授权文献
- US11746255B2 Hard-mask composition 公开/授权日：2023-09-05
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