- 专利标题： METROLOGY METHOD AND APPARATUS THEREFOR
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申请号： US17277583申请日： 2019-09-19
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公开(公告)号： US20210356873A1公开(公告)日： 2021-11-18
- 发明人: Arie Jeffrey DEN BOEF , Kaustuve BHATTACHARYYA , Kenji MORISAKI , Simon Gijsbert MATHIJSSEN
- 申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 国际申请： PCT/EP2019/075143 WO 20190919
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
A method to measure a parameter of a manufacturing process, the method including illuminating a target with radiation, detecting scattered radiation from the target, and determining the parameter of interest from an asymmetry of the detected radiation.
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