- 专利标题： Photoresist Remover
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申请号： US17753529申请日： 2020-09-28
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公开(公告)号： US20220333044A1公开(公告)日： 2022-10-20
- 发明人: YUANMEI CAO , MICHAEL PHENIS , LILI WANG , LAISHENG SUN , AIPING WU
- 申请人： Versum Materials US, LLC
- 申请人地址： US AZ Tempe
- 专利权人： Versum Materials US, LLC
- 当前专利权人： Versum Materials US, LLC
- 当前专利权人地址： US AZ Tempe
- 国际申请： PCT/US2020/052991 WO 20200928
- 主分类号： C11D7/32
- IPC分类号： C11D7/32 ; C11D7/50 ; C11D7/10 ; G03F7/42
摘要：
Cleaning compositions and the method of using the same are disclosed, where the compositions include one or more alkanolamines, one or more ether alcohol solvents or aromatic containing alcohol, one or more corrosion inhibitors, and optionally one or more secondary solvents.
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