- 专利标题： METHOD FOR PREPARING DEUTERATED AROMATIC COMPOUND, AND DEUTERATED REACTIVE COMPOSITION
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申请号： US17779920申请日： 2021-08-27
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公开(公告)号： US20230018666A1公开(公告)日： 2023-01-19
- 发明人: Seungyeon Hwang , Dongmin Jeong , Dai Seung Choi , Bethy Kim
- 申请人： LG CHEM, LTD.
- 申请人地址： KR Seoul
- 专利权人： LG CHEM, LTD.
- 当前专利权人： LG CHEM, LTD.
- 当前专利权人地址： KR Seoul
- 优先权： KR10-2020-0108192 20200827,KR10-2020-0178795 20201218
- 国际申请： PCT/KR2021/011541 WO 20210827
- 主分类号： C07D307/91
- IPC分类号： C07D307/91 ; C07D333/76 ; C07D209/88 ; C07D487/04 ; C07D495/04 ; C07D493/04 ; C07D251/22 ; C07D409/08 ; C07D405/08
摘要：
The present specification relates to a method for producing a deuterated aromatic compound and a deuterated reaction composition.
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