发明授权
- 专利标题： Base precursor for heat-developable photosensitive material
- 专利标题（中）： 用于热显影感光材料的基础前体
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申请号： US595121申请日： 1984-03-30
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公开(公告)号： US4560763A公开(公告)日： 1985-12-24
- 发明人: Kozo Sato , Hiroyuki Hirai
- 申请人： Kozo Sato , Hiroyuki Hirai
- 申请人地址： JPX Kanagawa
- 专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Kanagawa
- 优先权： JPX58-55700 19830331
- 主分类号： C07C51/347
- IPC分类号： C07C51/347 ; C07C57/18 ; C07C57/20 ; C07C57/22 ; C07C57/26 ; C07C57/42 ; C07C57/52 ; C07C57/60 ; C07C59/64 ; C07C59/76 ; C07C59/84 ; C07C205/56 ; C07D211/26 ; C07D211/58 ; C07D211/72 ; C07D213/55 ; C07D213/73 ; C07D213/74 ; C07D215/12 ; C07D233/06 ; C07D239/06 ; C07D263/56 ; C07D277/40 ; C07D277/64 ; C07D333/24 ; C07D333/28 ; G03C1/06 ; G03C1/42 ; G03C1/498 ; G03C1/52 ; G03C1/61 ; G03C5/18 ; G03C8/40 ; C07C69/52 ; C07C69/76 ; G03C1/00 ; G03C5/24
摘要：
A base precursor for heat-developable photosensitive material is disclosed. The precursor is comprised of a compound represented by general formula (I) or (II):(R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.x.B (I)R--C.tbd.C--CO.sub.2 H).sub.2.B.sub.y (II)The substituents within the general formulae are defined within the specification. The use of this novel base precursor makes it possible to obtain a material which is very stable at normal temperatures and which smoothly decomposes under heating at 80.degree. C. or higher in order to release a basic constituent.
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