发明授权
US4576898A Process of making photopolymer relief plates using an adhesive layer
失效
使用粘合剂层制造光聚合物浮雕板的工艺
- 专利标题： Process of making photopolymer relief plates using an adhesive layer
- 专利标题（中）： 使用粘合剂层制造光聚合物浮雕板的工艺
-
申请号： US658463申请日： 1984-10-09
-
公开(公告)号： US4576898A公开(公告)日： 1986-03-18
- 发明人: Gerhard Hoffmann , Dieter Kleuser , Werner Lenz
- 申请人： Gerhard Hoffmann , Dieter Kleuser , Werner Lenz
- 申请人地址： DEX
- 专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人地址： DEX
- 优先权： DEX3039209 19801017
- 主分类号： G03F7/09
- IPC分类号： G03F7/09 ; G03F7/027 ; G03F7/038 ; G03F7/11 ; G03C7/02
摘要：
Photopolymer relief plates are produced by applying a photopolymerizable relief-forming layer R, which contains a thermal polymerization inhibitor liberating nitrosyl free radicals on ultraviolet irradiation, to a dimensionally stable base which bears an adhesive layer A for the layer R, the layer A containing 0.01 to 10 percent by weight of a compound ##STR1## where R.sup.1, R.sup.2, R.sup.3 and R.sup.4 are identical or different and each is alkyl or R.sup.5 --(O-alkylene).sub.x --, R.sup.5 being H or alkyl and x being 1, 2, 3, 4 or 5, and then exposing, and developing, the layer R in a conventional manner.
公开/授权文献
- US5132752A Field effect transistor 公开/授权日：1992-07-21
信息查询
IPC分类:
