发明授权
US4957846A Radiation sensitive compound and mixtures with trinuclear novolak
oligomer with o-naphthoquinone diazide sulfonyl group
失效
辐射敏感化合物与三核酚醛清漆低聚物与邻萘醌二叠氮磺酰基的混合物
- 专利标题： Radiation sensitive compound and mixtures with trinuclear novolak oligomer with o-naphthoquinone diazide sulfonyl group
- 专利标题（中）： 辐射敏感化合物与三核酚醛清漆低聚物与邻萘醌二叠氮磺酰基的混合物
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申请号： US290009申请日： 1988-12-27
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公开(公告)号： US4957846A公开(公告)日： 1990-09-18
- 发明人: Alfred T. Jeffries, III , Andrew J. Blakeney , Medhat A. Toukhy
- 申请人： Alfred T. Jeffries, III , Andrew J. Blakeney , Medhat A. Toukhy
- 申请人地址： CT Cheshire
- 专利权人： Olin Hunt Specialty Products Inc.
- 当前专利权人： Olin Hunt Specialty Products Inc.
- 当前专利权人地址： CT Cheshire
- 主分类号： C07C39/15
- IPC分类号： C07C39/15 ; C07C39/16 ; C07C39/367 ; C07C309/76 ; C08G8/08 ; C08G8/20 ; C08G8/22 ; C08G8/28 ; C08L61/04 ; C08L61/14 ; C09D5/00 ; C09D5/32 ; C09D161/04 ; C09D161/14 ; G03F7/022 ; G03F7/023 ; H01L21/027 ; H01L21/30
摘要：
A trinuclear novolak oligomer of the formula (I): ##STR1## wherein each X is selected from the group consisting of hydroxyl group and halide group and Y is selected from the group consisting of a lower alkyl group having 1-4 carbon atoms and halogen atom.
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