发明授权
- 专利标题： Process for production of carboxylic acid esters and formamide
- 专利标题（中）： 生产羧酸酯和甲醛的方法
-
申请号： US535751申请日： 1990-06-08
-
公开(公告)号： US5194668A公开(公告)日： 1993-03-16
- 发明人: Hideo Ikarashi , Hirofumi Higuchi , Koichi Kida
- 申请人： Hideo Ikarashi , Hirofumi Higuchi , Koichi Kida
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- 当前专利权人： Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX1-184948 19890718
- 主分类号： C07D213/80
- IPC分类号： C07D213/80 ; B01J31/02 ; C07B61/00 ; C07C67/20 ; C07C69/003 ; C07C69/675 ; C07C231/00 ; C07C231/12 ; C07C233/03
摘要：
Carboxylic acid esters and formamide are efficiently obtained by reacting carboxylic acid amides and formic acid esters, or by reacting carboxylic acid amides, alcohols and carbon monoxide in the presence of a dehydrated condensate of carboxylic acid amide with an alkali metal hydroxide or an alkaline earth metal hydroxide catalyst.
公开/授权文献
- US3972033A Parity check system in a semiconductor memory 公开/授权日：1976-07-27