发明授权
US5516886A Metal ion reduction in top anti-reflective coatings for photoresists
失效
用于光致抗蚀剂的顶部抗反射涂层中的金属离子还原
- 专利标题： Metal ion reduction in top anti-reflective coatings for photoresists
- 专利标题（中）： 用于光致抗蚀剂的顶部抗反射涂层中的金属离子还原
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申请号： US258898申请日： 1994-06-10
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公开(公告)号： US5516886A公开(公告)日： 1996-05-14
- 发明人: M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
- 申请人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
- 申请人地址： NJ Somerville
- 专利权人： Hoechst Celanese Corporation
- 当前专利权人： Hoechst Celanese Corporation
- 当前专利权人地址： NJ Somerville
- 主分类号： G03F7/09
- IPC分类号： G03F7/09 ; G03F7/11 ; H01L21/027 ; C08F6/06 ; C08J7/00 ; G03C1/00
摘要：
The present invention provides methods for producing top anti-reflective coating compositions having a very low level of metal ions, utilizing specially treated ion exchange resins. A method is also provided for producing semiconductor devices using such top anti-reflective coating compositions.
公开/授权文献
- US6053227A Traction device for a wheeled vehicle 公开/授权日：2000-04-25
信息查询
IPC分类:
