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1.发明授权
公开(公告)号：US5516886A
公开(公告)日：1996-05-14
申请号：US258898
申请日：1994-06-10
申请人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
发明人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
CPC分类号： G03F7/091
摘要： The present invention provides methods for producing top anti-reflective coating compositions having a very low level of metal ions, utilizing specially treated ion exchange resins. A method is also provided for producing semiconductor devices using such top anti-reflective coating compositions.
摘要翻译： 本发明提供了利用特殊处理的离子交换树脂生产具有非常低水平金属离子的顶部抗反射涂料组合物的方法。 还提供了一种用于制造使用这种顶部抗反射涂层组合物的半导体器件的方法。
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公开(公告)号：US5286606A
公开(公告)日：1994-02-15
申请号：US996925
申请日：1992-12-29
申请人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
发明人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
IPC分类号： G03F7/32 , H01L21/027 , G03C5/305
CPC分类号： G03F7/32
摘要： The present invention provides a process for producing a developer containing a surfactant which contains a very low level of metal ions and a process for developing light sensitive photoresist compositions, using such a developer, to produce semiconductor devices.
摘要翻译： 本发明提供一种制备包含含有非常低水平的金属离子的表面活性剂的显影剂的方法和使用这种显影剂显影光敏性光刻胶组合物以制备半导体器件的方法。
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3.发明授权Acidic ion exchange resin as a catalyst to synthesize a novolak resin and photoresist composition therefrom 失效酸性离子交换树脂作为催化剂合成酚醛清漆树脂及其光致抗蚀剂组合物
公开(公告)号：US5665517A
公开(公告)日：1997-09-09
申请号：US587874
申请日：1996-01-11
CPC分类号： C08G8/10 , G03F7/0236
摘要： The present invention provides methods for producing water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resins having consistent molecular weight and a very low level of metal ions, utilizing a solid acid condensation catalyst. A method is also provided for producing photoresist composition having a very low level of metal ions from such novolak resins and for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明提供了利用固体酸缩合催化剂生产具有一致分子量和非常低水平的金属离子的水不溶性水溶性酚醛清漆树脂的方法。 还提供了一种用于生产具有来自这种酚醛清漆树脂的非常低水平的金属离子并且使用这种光致抗蚀剂组合物制造半导体器件的光致抗蚀剂组合物的方法。
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公开(公告)号：US5614349A
公开(公告)日：1997-03-25
申请号：US997942
申请日：1992-12-29
CPC分类号： C08G8/08 , G03F7/0236
摘要： The present invention provides methods for producing water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resins having a precise and consistent molecular weight, by adjusting the concentration of Lewis base. A method is also provided for producing photoresist composition from such novolak resins and for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明提供了通过调节路易斯碱的浓度来制备具有精确和一致分子量的水不溶性水溶性酚醛清漆树脂的方法。 还提供了用于由这种酚醛清漆树脂制造光致抗蚀剂组合物并用于制备使用这种光致抗蚀剂组合物的半导体器件的方法。
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公开(公告)号：US5580949A
公开(公告)日：1996-12-03
申请号：US458588
申请日：1995-06-02
申请人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
发明人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
CPC分类号： C08G8/08 , G03F7/0236
摘要： The present invention provides methods for producing water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resins having a very low level of metal ions, utilizing treated ion exchange resins. A method is also provided for producing photoresist composition having a very low level of metal ions from such novolak resins and for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明提供了利用处理的离子交换树脂生产具有非常低的金属离子含量的水不溶性碱性水溶性酚醛清漆树脂的方法。 还提供了一种用于生产具有来自这种酚醛清漆树脂的非常低水平的金属离子并且使用这种光致抗蚀剂组合物制造半导体器件的光致抗蚀剂组合物的方法。
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公开(公告)号：US6106995A
公开(公告)日：2000-08-22
申请号：US373319
申请日：1999-08-12
IPC分类号： G03F7/004 , C09D5/00 , C09D179/00 , G03F7/09 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03C1/492
CPC分类号： G03F7/091
摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising an admixture of:a) a polymer defined by the following structure: ##STR1## where, R.sub.1 & R.sub.2 are independently hydrogen, or C.sub.1 to C.sub.5 alkylR.sub.3 is a methyl, ethyl, propyl or butyl groupR.sub.4 -R.sub.7 are independently hydrogen, or C.sub.1 to C.sub.5 alkyln=10 to 50,000(b) a fluorine-containing, sparingly water-soluble (0.1%-10% by weight in water) organic C.sub.3 -C.sub.13 aliphatic carboxylic acid;(c) a non-metallic hydroxide; and(d) a solvent.The invention also relates to a method for producing such an antireflective coating composition and to a method for producing a microelectronic device using such an antireflective coating composition in conjunction with a photoresist composition.
摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含以下混合物的混合物：a）由以下结构定义的聚合物：其中R1和R2独立地为氢，或C1至C5烷基，R3为甲基，乙基，丙基或丁基R4 -R7独立地为氢，或C 1至C 5烷基n = 10至50,000（b）含氟的微水溶性（0.1重量％-10重量％的水）有机C 3 -C 13脂族羧酸; （c）非金属氢氧化物; 和（d）溶剂。 本发明还涉及一种制备这种抗反射涂料组合物的方法和一种使用这种抗反射涂料组合物与光致抗蚀剂组合物一起生产微电子器件的方法。
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公开(公告)号：US5981145A
公开(公告)日：1999-11-09
申请号：US846986
申请日：1997-04-30
申请人： Shuji Ding , Dinesh N. Khanna , Ping-Hung Lu , Jianhui Shan , Ralph R. Dammel , Dana L. Durham , M. Dalil Rahman , Iain McCulloch
发明人： Shuji Ding , Dinesh N. Khanna , Ping-Hung Lu , Jianhui Shan , Ralph R. Dammel , Dana L. Durham , M. Dalil Rahman , Iain McCulloch
IPC分类号： G03F7/11 , C08F8/00 , C08F8/30 , G03F7/09 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , C08F8/00 , C08F8/30 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F2810/20
摘要： The present invention relates to a novel polymer suitable for use as an antireflective coating or as an additive in photoresist for absorption of reflected light. The novel polymer comprises at least one unit containing a dye that absorbs from about 180 nm to about 450 nm and at least one unit that contains no aromatic funtionality. The polymer is soluble in organic solvents, preferrably solvents of low toxicity, or it may be soluble in water, which may additionally contain other water miscible organic solvents.
摘要翻译： 本发明涉及一种适合用作抗反射涂层的新型聚合物或作为用于吸收反射光的光刻胶中的添加剂。 该新型聚合物包含至少一个含有吸收约180nm至约450nm的染料的单元和至少一个不含芳香官能团的单元。 聚合物可溶于有机溶剂中，优选低毒性溶剂，或者它可溶于水，其可另外含有其它与水可混溶的有机溶剂。
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8.发明授权
公开(公告)号：US5688893A
公开(公告)日：1997-11-18
申请号：US771715
申请日：1996-12-20
CPC分类号： C08G8/08 , G03F7/0236
摘要： The present invention provides methods for producing water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resins having a precise and consistent molecular weight, by adjusting the concentration of Lewis base. A method is also provided for producing photoresist composition from such novolak resins and for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明提供了通过调节路易斯碱的浓度来制备具有精确和一致分子量的水不溶性水溶性酚醛清漆树脂的方法。 还提供了用于由这种酚醛清漆树脂制造光致抗蚀剂组合物并用于制备使用这种光致抗蚀剂组合物的半导体器件的方法。
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公开(公告)号：US5594098A
公开(公告)日：1997-01-14
申请号：US272962
申请日：1994-07-11
申请人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
发明人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
CPC分类号： C08G8/08 , G03F7/0236
摘要： The present invention provides methods for producing water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resins having a very low level of metal ions, utilizing treated ion exchange resins. A method is also provided for producing photoresist composition having a very low level of metal ions from such novolak resins and for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明提供了利用处理的离子交换树脂生产具有非常低的金属离子含量的水不溶性碱性水溶性酚醛清漆树脂的方法。 还提供了一种用于生产具有来自这种酚醛清漆树脂的非常低水平的金属离子并且使用这种光致抗蚀剂组合物制造半导体器件的光致抗蚀剂组合物的方法。
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公开(公告)号：US5543263A
公开(公告)日：1996-08-06
申请号：US261646
申请日：1994-06-17
申请人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
发明人： M. Dalil Rahman , Dana L. Durham
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0236
摘要： The present invention provides methods for producing photoresist compositions having a very low level of metal ions, utilizing specially treated ion exchange resins. A method is also provided for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
摘要翻译： 本发明提供了利用特殊处理的离子交换树脂制备具有非常低水平的金属离子的光致抗蚀剂组合物的方法。 还提供了一种用于制造使用这种光致抗蚀剂组合物的半导体器件的方法。
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