Forming of deuterium containing nitride spacers and fabrication of semiconductor devices

发明授权

US6147014A Forming of deuterium containing nitride spacers and fabrication of semiconductor devices 失效

标题翻译：含氘氮化物间隔物的形成和半导体器件的制造

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专利标题： Forming of deuterium containing nitride spacers and fabrication of semiconductor devices
专利标题（中）： 含氘氮化物间隔物的形成和半导体器件的制造
申请号： US20565

申请日： 1998-01-16
公开(公告)号： US6147014A

公开(公告)日： 2000-11-14
发明人: Joseph W. Lyding , Karl Hess
申请人： Joseph W. Lyding , Karl Hess
申请人地址： IL Urbana
专利权人： The Board of Trustees, University of Illinois, Urbana
当前专利权人： The Board of Trustees, University of Illinois, Urbana
当前专利权人地址： IL Urbana
主分类号： H01L29/78
IPC分类号： H01L29/78 ; H01L21/28 ; H01L21/30 ; H01L21/324 ; H01L29/51 ; H01L21/00

Forming of deuterium containing nitride spacers and fabrication of
semiconductor devices

摘要：

Described are preferred processes for conditioning semiconductor devices with deuterium to improve operating characteristics and decrease depassivation which occurs during the course of device operation. Also described are semiconductor devices which can be prepared by such processes.

摘要（中）：

描述了用于调节具有氘的半导体器件以改善操作特性并减少在器件操作过程中发生的去钝化的优选方法。还描述了可以通过这些方法制备的半导体器件。

公开/授权文献

USD372129S Portable power brush housing 公开/授权日：1996-07-30

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L29/00	专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L31/00至H01L47/00，H01L51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00）
H01L29/66	.按半导体器件的类型区分的
H01L29/68	..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的（H01L29/96优先）
H01L29/76	...单极器件
H01L29/772	....场效应晶体管
H01L29/78	.....由绝缘栅产生场效应的