发明授权
- 专利标题： Positive resist composition
- 专利标题（中）： 正抗蚀剂组成
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申请号： US10187291申请日： 2002-07-02
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公开(公告)号： US06878502B2公开(公告)日： 2005-04-12
- 发明人: Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
- 申请人： Kazuyoshi Mizutani , Shinichi Kanna
- 申请人地址： JP Kanagawa
- 专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Kanagawa
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JPP.2001-202240 20010703; JPP.2001-202242 20010703; JPP.2001-202243 20010703
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/038
摘要：
A positive resist composition comprises (A) a resin which comprises a specified repeating units and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation.
公开/授权文献
- US20030134224A1 Positive resist composition 公开/授权日：2003-07-17
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IPC分类:
