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US06933097B2 Photosensitive composition for manufacturing optical waveguide, production method thereof and polymer optical waveguide pattern formation method using the same
失效
用于制造光波导的光敏组合物，其制造方法和使用该光波导的聚合物光波导图案形成方法
- 专利标题： Photosensitive composition for manufacturing optical waveguide, production method thereof and polymer optical waveguide pattern formation method using the same
- 专利标题（中）： 用于制造光波导的光敏组合物，其制造方法和使用该光波导的聚合物光波导图案形成方法
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申请号： US10803435申请日： 2004-03-18
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公开(公告)号： US06933097B2公开(公告)日： 2005-08-23
- 发明人: Seiji Toyoda , Saburo Imamura , Satoru Tomaru , Takashi Kurihara , Koji Enbutsu , Shoichi Hayashida , Tohru Maruno
- 申请人： Seiji Toyoda , Saburo Imamura , Satoru Tomaru , Takashi Kurihara , Koji Enbutsu , Shoichi Hayashida , Tohru Maruno
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Nippon Telegraph and Telephone Corporation
- 当前专利权人： Nippon Telegraph and Telephone Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Alston & Bird LLP
- 优先权： JP10-283142 19981005
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/075 ; G03C1/73 ; G03F7/028 ; G03F7/20 ; G03F7/30
摘要：
A photosensitive composition for optical waveguides comprising of an organic oligomer, a polymerization initiator and a crosslinking agent, the organic oligomer being a silicone oligomer represented by the following formula (1), wherein X denotes hydrogen, deuterium, halogen, an alkyl group or an alkoxy group; m is an integer from 1 to 5; x and y represent the proportion of respective units, and neither x nor y is 0; and R1 denotes a methyl, ethyl, or isopropyl group; a production method thereof, and a polymer optical waveguide pattern formation method using the same.
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