发明授权
- 专利标题： Method and apparatus for photomask fabrication
- 专利标题（中）： 光掩模制造的方法和装置
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申请号： US10334662申请日： 2002-12-30
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公开(公告)号： US06979408B2公开(公告)日： 2005-12-27
- 发明人: Yoshihiro Tezuka , Toshifumi Yokoyama , Tsukasa Abe
- 申请人： Yoshihiro Tezuka , Toshifumi Yokoyama , Tsukasa Abe
- 申请人地址： US CA Santa Clara JP Tokyo
- 专利权人： Intel Corporation,Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- 当前专利权人： Intel Corporation,Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： US CA Santa Clara JP Tokyo
- 代理机构： Fish & Richardson P.C.
- 主分类号： C23F1/00
- IPC分类号： C23F1/00 ; G03F1/00 ; G03F1/36 ; H01L21/00
摘要：
The invention provides methods and apparatuses for controlling critical dimension (CD) uniformity of a photomask by neutralizing CD variation associated with pattern density and process fluctuation.
公开/授权文献
- US20040244912A1 Method and apparatus for photomask fabrication 公开/授权日：2004-12-09
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