Using different gate dielectrics with NMOS and PMOS transistors of a complementary metal oxide semiconductor integrated circuit

发明授权

US07087476B2 Using different gate dielectrics with NMOS and PMOS transistors of a complementary metal oxide semiconductor integrated circuit 有权

标题翻译：使用不同的栅极介质与互补金属氧化物半导体集成电路的NMOS和PMOS晶体管

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专利标题： Using different gate dielectrics with NMOS and PMOS transistors of a complementary metal oxide semiconductor integrated circuit
专利标题（中）： 使用不同的栅极介质与互补金属氧化物半导体集成电路的NMOS和PMOS晶体管
申请号： US10900585

申请日： 2004-07-28
公开(公告)号： US07087476B2

公开(公告)日： 2006-08-08
发明人: Matthew V. Metz , Suman Datta , Jack Kavalieros , Mark L. Doczy , Justin K. Brask , Robert S. Chau
申请人： Matthew V. Metz , Suman Datta , Jack Kavalieros , Mark L. Doczy , Justin K. Brask , Robert S. Chau
申请人地址： US CA Santa Clara
专利权人： Intel Corporation
当前专利权人： Intel Corporation
当前专利权人地址： US CA Santa Clara
代理机构： Trop, Pruner & Hu, P.C.
主分类号： H01L21/8238
IPC分类号： H01L21/8238

Using different gate dielectrics with NMOS and PMOS transistors of a complementary metal oxide semiconductor integrated circuit

摘要：

Complementary metal oxide semiconductor integrated circuits may be formed with NMOS and PMOS transistors having different gate dielectrics. The different gate dielectrics may be formed, for example, by a subtractive process. The gate dielectrics may differ in material, thickness, or formation techniques, as a few examples.

摘要（中）：

互补金属氧化物半导体集成电路可以由具有不同栅极电介质的NMOS和PMOS晶体管形成。可以例如通过减法处理形成不同的栅极电介质。作为几个示例，栅极电介质可能在材料，厚度或形成技术上不同。

公开/授权文献

US20060022271A1 Using different gate dielectrics with NMOS and PMOS transistors of a complementary metal oxide semiconductor integrated circuit 公开/授权日：2006-02-02

信息查询

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77	..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78	...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82	....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822	.....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232	......场效应工艺
H01L21/8234	.......MIS工艺
H01L21/8238	........互补场效应晶体管，例如CMOS