发明授权
- 专利标题： Method for manufacturing thin film transistor array panel
- 专利标题（中）： 制造薄膜晶体管阵列面板的方法
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申请号： US10867811申请日： 2004-06-16
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公开(公告)号： US07273772B2公开(公告)日： 2007-09-25
- 发明人: Won-Kie Chang , Jin-Wook Lee , Won Song , Jeong-Sik Yoo , You-Keun Kim , Dong-Uk Choi
- 申请人： Won-Kie Chang , Jin-Wook Lee , Won Song , Jeong-Sik Yoo , You-Keun Kim , Dong-Uk Choi
- 申请人地址： KR Suwon-Si
- 专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Suwon-Si
- 代理机构： F. Chau & Associates, LLC
- 优先权： KR10-2003-0038713 20030616
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00
摘要：
The present invention relates to a method of manufacturing a thin film transistor array panel and apparatus and more particularly to an apparatus containing an in-situ fluorine generation chamber.
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