发明授权
- 专利标题： Particle remover, exposure apparatus having the same, and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 除粒剂，曝光装置及其制造方法
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申请号： US11255530申请日： 2005-10-20
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公开(公告)号： US07414240B2公开(公告)日： 2008-08-19
- 发明人: Akinori Ohkubo , Kenji Yamazoe , Hiroshi Osawa
- 申请人： Akinori Ohkubo , Kenji Yamazoe , Hiroshi Osawa
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Morgan & Finnegan, LLP
- 优先权： JP2004-307860 20041022
- 主分类号： H01S1/00
- IPC分类号： H01S1/00 ; H01S3/00 ; H05H3/02
摘要：
A particle remover includes an irradiation unit for irradiating plural lights onto a target from different directions, and for scanning the lights on the target, and a collector for collecting particles carried as a result of scanning of the lights.
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