发明授权
- 专利标题： Composition for the removal of sidewall residues
- 专利标题（中）： 用于去除侧壁残留物的组合物
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申请号： US12133532申请日： 2008-06-05
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公开(公告)号： US07531492B2公开(公告)日： 2009-05-12
- 发明人: Raimund Mellies , Marc Boerner , Lucia Arnóld , Andrea Barko , Rudolf Rhein
- 申请人： Raimund Mellies , Marc Boerner , Lucia Arnóld , Andrea Barko , Rudolf Rhein
- 申请人地址： DE Ludwigshafen
- 专利权人： BASF SE
- 当前专利权人： BASF SE
- 当前专利权人地址： DE Ludwigshafen
- 代理机构： Millen, White, Zelano, Branigan, P.C.
- 优先权： DE10227867 20020622
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42 ; C25F3/12
摘要：
A composition for the production of semiconductors, comprising H2SiF6 and/or HBF4 in a total amount of 10-500 mg/kg, 1-17 % by weight of H2S04, 1-15% by weight of H202, optionally in combination with additives, in aqueous solution and a process of removing residual polymers using the composition.
公开/授权文献
- US20080280803A1 COMPOSITION FOR THE REMOVAL OF SIDEWALL RESIDUES 公开/授权日：2008-11-13
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IPC分类:
