发明授权
- 专利标题： Exposure process and apparatus using glass photomasks
- 专利标题（中）： 曝光工艺和使用玻璃光掩模的设备
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申请号： US11384317申请日： 2006-03-21
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公开(公告)号： US07538853B2公开(公告)日： 2009-05-26
- 发明人: Masashi Nishiki , Hisashi Okada
- 申请人： Masashi Nishiki , Hisashi Okada
- 申请人地址： JP Kawasaki
- 专利权人： Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited
- 当前专利权人： Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited
- 当前专利权人地址： JP Kawasaki
- 代理机构： Staas & Halsey LLP
- 优先权： JP2005-087588 20050325
- 主分类号： G03B27/68
- IPC分类号： G03B27/68 ; G03B27/44 ; G03B27/42 ; G03B27/58 ; G03B27/62 ; G03B27/32 ; H01L21/00 ; G03C5/00
摘要：
An exposure process using photomasks, the process includes the steps of: providing a plurality of glass photomasks for optical lithography with respect to a target substrate to be processed, the photomasks having identical exposure patterns, and exposing the target substrate a plurality of times using the plurality of glass photomasks.
公开/授权文献
- US20060215146A1 Exposure process and apparatus using glass photomasks 公开/授权日：2006-09-28