发明授权
- 专利标题： Photosensitive composition and pattern-forming method using the same
- 专利标题（中）： 光敏组合物和使用其的图案形成方法
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申请号： US11373188申请日： 2006-03-13
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公开(公告)号： US07807329B2公开(公告)日： 2010-10-05
- 发明人: Kazuyoshi Mizutani , Yasutomo Kawanishi
- 申请人： Kazuyoshi Mizutani , Yasutomo Kawanishi
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JPP.2005-075494 20050316
- 主分类号： G03F7/029
- IPC分类号： G03F7/029
摘要：
A photosensitive composition comprises (A) a specific compound, which is excellent in sensitivity, resolution, and defocus latitude (DOF), and a pattern-forming method using the photosensitive composition is provided.
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