发明授权
- 专利标题： Sputtering apparatus and method of preventing damage thereof
- 专利标题（中）： 溅射装置及其防止损坏的方法
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申请号： US11320565申请日： 2005-12-30
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公开(公告)号： US07820016B2公开(公告)日： 2010-10-26
- 发明人: Jinhee Yun , Munik Na , Seunglyul Lee , Kyoungshik Kim , Junhyung Park , Sanghyo Park , Jaehoon Choi , Kagkyu Jung , Jaekwang Kim
- 申请人： Jinhee Yun , Munik Na , Seunglyul Lee , Kyoungshik Kim , Junhyung Park , Sanghyo Park , Jaehoon Choi , Kagkyu Jung , Jaekwang Kim
- 申请人地址： KR Seoul
- 专利权人： LG Display Co., Ltd.
- 当前专利权人： LG Display Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Seoul
- 代理机构： Morgan Lewis & Bockius LLP
- 优先权： KR10-2005-0055521 20050627
- 主分类号： C23C14/00
- IPC分类号： C23C14/00 ; C23C14/32 ; C23C16/00
摘要：
A sputtering apparatus includes a container; a plate for supporting the container; a first attachment for attaching the container to the plate; and a second attachment for less tightly attaching the container to the plate than through the first attachment.
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