发明授权
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US12213589申请日： 2008-06-20
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公开(公告)号： US07852457B2公开(公告)日： 2010-12-14
- 发明人: Stefan Philip Christiaan Belfroid , Nicolaas Ten Kate , Nicolaas Rudolf Kemper , Johannes Petrus Maria Smeulers , Arno Willem Frederik Volker , Rene Breeuwer
- 申请人： Stefan Philip Christiaan Belfroid , Nicolaas Ten Kate , Nicolaas Rudolf Kemper , Johannes Petrus Maria Smeulers , Arno Willem Frederik Volker , Rene Breeuwer
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52 ; G03B27/42 ; G03B27/32 ; G03C5/00
摘要：
In an immersion lithography apparatus, ultrasonic waves are used to atomize liquid on a surface of the substrate.
公开/授权文献
- US20090009734A1 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2009-01-08
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