发明授权
US07863231B2 Thinner composition and method of removing photoresist using the same
有权
较薄的组成和使用其去除光致抗蚀剂的方法
- 专利标题： Thinner composition and method of removing photoresist using the same
- 专利标题（中）： 较薄的组成和使用其去除光致抗蚀剂的方法
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申请号： US12118778申请日： 2008-05-12
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公开(公告)号： US07863231B2公开(公告)日： 2011-01-04
- 发明人: Seung-Hyun Ahn , Eun-Mi Bae , Baik-Soon Choi , Sang-Mun Chon , Dae-Joung Kim , Kwang-sub Yoon , Sang-Kyu Park , Jae-Ho Kim , Shi-Yong Yi , Kyoung-Mi Kim , Yeu-Young Youn
- 申请人： Seung-Hyun Ahn , Eun-Mi Bae , Baik-Soon Choi , Sang-Mun Chon , Dae-Joung Kim , Kwang-sub Yoon , Sang-Kyu Park , Jae-Ho Kim , Shi-Yong Yi , Kyoung-Mi Kim , Yeu-Young Youn
- 申请人地址： KR Suwon-si, Gyeonggi-do
- 专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Suwon-si, Gyeonggi-do
- 代理机构： Volentine & Whitt, PLLC
- 优先权： KR2004-8678 20040210
- 主分类号： C11D7/50
- IPC分类号： C11D7/50
摘要：
A thinner composition includes propylene glycol ether acetate, methyl 2-hydroxy-2-methyl propionate, and an ester compound such as ethyl lactate, ethyl 3-ethoxy propionate or a mixture thereof.
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