发明授权
- 专利标题： Micromechanical system including a suspension and an electrode positioned movably
- 专利标题（中）： 微机械系统包括悬架和可移动的电极
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申请号： US12323653申请日： 2008-11-26
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公开(公告)号： US07878061B2公开(公告)日： 2011-02-01
- 发明人: Johannes Classen , Arnd Kaelberer , Patrick Wellner , Dietrich Schubert , Lars Tebje
- 申请人： Johannes Classen , Arnd Kaelberer , Patrick Wellner , Dietrich Schubert , Lars Tebje
- 申请人地址： DE Stuttgart
- 专利权人： Robert Bosch GmbH
- 当前专利权人： Robert Bosch GmbH
- 当前专利权人地址： DE Stuttgart
- 代理机构： Kenyon & Kenyon LLP
- 优先权： DE102007060878 20071218
- 主分类号： H01L21/76
- IPC分类号： H01L21/76
摘要：
A micromechanical system includes a substrate, a first planar electrode, a second planar electrode, and a third planar electrode. The second planar electrode is movably positioned at a distance above the first planar electrode and the third planar electrode is positioned at a distance above the second electrode.
公开/授权文献
- US20090152654A1 MICROMECHANICAL SYSTEM 公开/授权日：2009-06-18