发明授权
- 专利标题： Photosensitive resin composition for laser engravable printing substrate
- 专利标题（中）： 激光雕刻印刷基材的感光树脂组合物
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申请号： US10587315申请日： 2005-01-26
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公开(公告)号： US07901863B2公开(公告)日： 2011-03-08
- 发明人: Hiroshi Yamada , Kei Tomeba
- 申请人： Hiroshi Yamada , Kei Tomeba
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Asahi Kasei Chemicals Corporation
- 当前专利权人： Asahi Kasei Chemicals Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner, L.L.P.
- 优先权： JP2004-018470 20040127; JP2004-237600 20040817
- 国际申请： PCT/JP2005/000953 WO 20050126
- 国际公布： WO2005/070691 WO 20050804
- 主分类号： G03F7/075
- IPC分类号： G03F7/075 ; G03F7/012 ; G00F7/027
摘要：
A photosensitive resin composition for a laser engravable printing substrate, comprising resin (a) having a polymerizable unsaturated group whose number average molecular weight is in the range of 1000 to 20×104, organic compound (b) having a polymerizable unsaturated group whose number average molecular weight is
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