发明授权
US07960095B2 Use of mixed bases to enhance patterned resist profiles on chrome or sensitive substrates
有权
使用混合的底物来增强镀铬或敏感衬底上的抗蚀剂图案
- 专利标题： Use of mixed bases to enhance patterned resist profiles on chrome or sensitive substrates
- 专利标题（中）： 使用混合的底物来增强镀铬或敏感衬底上的抗蚀剂图案
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申请号： US10597904申请日： 2004-02-11
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公开(公告)号： US07960095B2公开(公告)日： 2011-06-14
- 发明人: Wayne M. Moreau , Marie Angelopoulos , Wu-Song Huang , David R. Medeiros , Karen E. Petrillo
- 申请人： Wayne M. Moreau , Marie Angelopoulos , Wu-Song Huang , David R. Medeiros , Karen E. Petrillo
- 申请人地址： US NY Armonk
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： US NY Armonk
- 代理商 Steven Capella; Katherine S. Brown
- 国际申请： PCT/US2004/004144 WO 20040211
- 国际公布： WO2005/088393 WO 20050922
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F7/30 ; G03F7/36 ; G03F7/38 ; G03F7/039
摘要：
Resist compositions having good footing properties even on difficult substrates are obtained by using a combination of base additives including a room temperature solid base, and a liquid low vapor pressure base. The compositions are especially useful on metal substrates such as chromium-containing layers commonly used in mask-making.
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