发明授权
- 专利标题： Base soluble polymers for photoresist compositions
- 专利标题（中）： 用于光致抗蚀剂组合物的基础可溶性聚合物
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申请号： US12263511申请日： 2008-11-03
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公开(公告)号： US08088564B2公开(公告)日： 2012-01-03
- 发明人: David Abdallah , Francis Houlihan
- 申请人： David Abdallah , Francis Houlihan
- 申请人地址： US NJ Somerville
- 专利权人： AZ Electronic Materials USA Corp.
- 当前专利权人： AZ Electronic Materials USA Corp.
- 当前专利权人地址： US NJ Somerville
- 代理商 Alan P. Kass; Sangya Jain
- 主分类号： G03F7/40
- IPC分类号： G03F7/40 ; G03F7/039 ; C08G75/20
摘要：
Base soluble polymer comprising at least one sulfonyl group where at least one carbon atom at α-position and/or β-position and/or γ-position with respect to the sulfonyl group has a hydroxyl group, where the hydroxyl group is protected or unprotected are described.
公开/授权文献
- US20090061347A1 BASE SOLUBLE POLYMERS FOR PHOTORESIST COMPOSITIONS 公开/授权日：2009-03-05
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