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    Antireflective coating composition
    2.
    发明授权
    Antireflective coating composition 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US07989144B2

    公开(公告)日：2011-08-02

    申请号：US12060307

    申请日：2008-04-01

    申请人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

    发明人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/30 ,  B29C59/16 ,  C08F291/02

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a thermal acid generator and an epoxy polymer comprising at least one unit of structure 1, at least one unit of structure 2, where, R1 to R12 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, structure 1 has a configuration selected from cis, trans or mixture thereof, and x and y are the mole % of the monomeric units in the polymer. The invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device.

    摘要翻译： 本发明涉及包含热酸产生剂和环氧聚合物的抗反射组合物，其包含至少一个结构单元1，至少一个结构单元2，其中R 1至R 12独立地选自氢和C 1 -C 4烷基， 结构1具有选自顺式，反式或其混合物的构型，x和y是聚合物中单体单元的摩尔％。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法。

    Composite tire assembly
    4.
    发明申请
    Composite tire assembly 有权
    复合轮胎组件

    公开(公告)号：US20070246139A1

    公开(公告)日：2007-10-25

    申请号：US11407154

    申请日：2006-04-19

    申请人： David Abdallah

    发明人： David Abdallah

    IPC分类号： B60B9/18

    CPC分类号： B60B19/00 ,  B60B2310/318 ,  B60B2310/321 ,  B60B2360/102 ,  B60B2360/104 ,  B60B2360/32 ,  B60B2360/341 ,  B60B2360/348 ,  B60B2360/50 ,  Y10T152/10063

    摘要： A tire for a vehicle comprises, an inner wheel (12) adapted to mount to a vehicle having a radially outer surface (34). A first ring (16) is annular and concentric with the inner wheel (12) and has a radially outer (40) and a radially inner (38) surface. An annular inner-tube (14) is securedly positioned between the inner wheel (12) and the first ring (16). A second ring (18) has a radially outer surface (46) and a radially inner surface (44) adapted to mate with first ring (16). A tread (20) is secured to radially outer surface (46) of said second ring (18).

    摘要翻译： 一种用于车辆的轮胎包括适于安装到具有径向外表面（34）的车辆的内轮（12）。 第一环（16）是环形的并且与内轮（12）同心，并具有径向外（40）和径向内（38）表面。 环形内管（14）固定地定位在内轮（12）和第一环（16）之间。 第二环（18）具有适于与第一环（16）配合的径向外表面（46）和径向内表面（44）。 胎面（20）固定到所述第二环（18）的径向外表面（46）上。

    Antireflective Coating Composition
    7.
    发明申请
    Antireflective Coating Composition 有权
    防反射涂料组合物

    公开(公告)号：US20090246691A1

    公开(公告)日：2009-10-01

    申请号：US12060307

    申请日：2008-04-01

    申请人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

    发明人： M. Dalil Rahman ,  David Abdallah ,  Rhuzi Zhang ,  Douglas McKenzie

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The present invention relates to an antireflective composition comprising a thermal acid generator and an epoxy polymer comprising at least one unit of structure 1, at least one unit of structure 2. where, R1 to R12 are independently selected from hydrogen and C1-C4 alkyl, structure. 1 has a configuration selected from cis, trans or mixture thereof, and x and y are the mole % of the monomeric units in the polymer. The invention also relates to a process for manufacturing a microelectronic device.

    摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射组合物，其包含热酸产生剂和环氧聚合物，其包含至少一个结构单元1，至少一个结构单元，其中R1至R12独立地选自氢和C1-C4烷基， 结构体。 1具有选自顺式，反式或其混合物的构型，x和y是聚合物中单体单元的摩尔％。 本发明还涉及一种用于制造微电子器件的方法。

    Hardmask process for forming a reverse tone image using polysilazane
    9.
    发明授权
    Hardmask process for forming a reverse tone image using polysilazane 有权
    使用聚硅氮烷形成反向色调图像的硬掩模工艺

    公开(公告)号：US08084186B2

    公开(公告)日：2011-12-27

    申请号：US12368720

    申请日：2009-02-10

    申请人： David Abdallah ,  Ralph R. Dammel ,  Yusuke Takano ,  Jin Li ,  Kazunori Kurosawa

    发明人： David Abdallah ,  Ralph R. Dammel ,  Yusuke Takano ,  Jin Li ,  Kazunori Kurosawa

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

    CPC分类号： G03F7/40 ,  H01L21/02123 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/3125 ,  Y10T428/24802

    摘要： The present invention relates to a process for forming an reverse tone image on a device comprising; a) forming an optional absorbing organic underlayer on a substrate; b) forming a coating of a photoresist over the underlayer; c) forming a photoresist pattern; d) forming a polysilazane coating over the photoresist pattern from a polysilazane coating composition, where the polysilazane coating is thicker than the photoresist pattern, and further where the polysilazane coating composition comprises a silicon/nitrogen polymer and an organic coating solvent; e) etching the polysilazane coating to remove the polysilazane coating at least up to a level of the top of the photoresist such that the photoresist pattern is revealed; and, f) dry etching to remove the photoresist and the underlayer which is beneath the photoresist, thereby forming an opening beneath where the photoresist pattern was present.The invention further relates to a product of the above process and to a microelectronic device made from using the above process.

    摘要翻译： 本发明涉及一种在装置上形成反向色调图像的方法，包括： a）在衬底上形成可选的吸收有机底层; b）在底层上形成光致抗蚀剂的涂层; c）形成光致抗蚀剂图案; d）从聚硅氮烷涂料组合物在光致抗蚀剂图案上形成聚硅氮烷涂层，其中聚硅氮烷涂层比光致抗蚀剂图案厚，此外聚硅氮烷涂层组合物包含硅/氮聚合物和有机涂层溶剂; e）蚀刻聚硅氮烷涂层以除去聚硅氮烷涂层至少高达光致抗蚀剂顶部的水平，使得光刻胶图案显露出来; 以及f）干蚀刻以除去光致抗蚀剂下面的光致抗蚀剂和底层，从而在存在光致抗蚀剂图案的下方形成开口。 本发明还涉及上述方法的产品和使用上述方法制造的微电子器件。