发明授权
- 专利标题： Anti-reflection coating and its production method
- 专利标题（中）： 防反射涂层及其制作方法
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申请号： US12393333申请日： 2009-02-26
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公开(公告)号： US08231966B2公开(公告)日： 2012-07-31
- 发明人: Hiroaki Imai , Hiroyuki Nakayama , Takanobu Shiokawa , Kazuhiro Yamada , Mineta Suzuki
- 申请人： Hiroaki Imai , Hiroyuki Nakayama , Takanobu Shiokawa , Kazuhiro Yamada , Mineta Suzuki
- 申请人地址： JP Tokyo JP Tokyo
- 专利权人： Keio University,Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd.
- 当前专利权人： Keio University,Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo JP Tokyo
- 代理机构： Greenblum & Bernstein, P.L.C.
- 优先权： JP2008-052607 20080303
- 主分类号： B32B3/26
- IPC分类号： B32B3/26 ; B32B9/00
摘要：
An anti-reflection coating comprising a mesoporous silica coating composed of mesoporous silica nano-particles formed on a substrate or a dense coating formed on the substrate, the mesoporous silica coating having a refractive index of more than 1.10 and 1.35 or less.
公开/授权文献
- US20090220774A1 ANTI-REFLECTION COATING AND ITS PRODUCTION METHOD 公开/授权日：2009-09-03
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